Piranti Grafit Dilapisi Silikon Karbida kanggo Epitaksi

Katrangan Cekak:

Semicera nawakake macem-macem susceptor lan komponen grafit sing dirancang kanggo macem-macem reaktor epitaksi.

Liwat kemitraan strategis karo OEM sing unggul ing industri, keahlian bahan sing ekstensif, lan kemampuan manufaktur sing canggih, Semicera ngirim desain sing disesuaikan kanggo nyukupi syarat khusus aplikasi sampeyan. Komitmen kita kanggo kaunggulan njamin sampeyan nampa solusi optimal kanggo kabutuhan reaktor epitaksi sampeyan.

Kirim email menyang kita

Rincian Produk

Tag Produk

Katrangan

Perusahaan kita nyedhiyakake layanan proses pelapisan SiC kanthi metode CVD ing permukaan grafit, keramik, lan bahan liyane, supaya gas khusus sing ngemot karbon lan silikon bisa reaksi ing suhu dhuwur kanggo entuk molekul SiC kemurnian dhuwur, molekul sing diendapkan ing permukaan bahan sing dilapisi, mbentuk lapisan pelindung SIC.

babagan (1)

babagan (2)

Fitur Utama

1. Grafit dilapisi SiC kemurnian tinggi

2. Tahan panas sing unggul & keseragaman termal

3. Dilapisi kristal SiC sing alus kanggo permukaan sing alus

4. Daya tahan dhuwur nglawan reresik kimia

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC

Properti SiC-CVD
Struktur Kristal	Fase β FCC
Kapadhetan	g/cm³	3.21
Kekerasan	Kekerasan Vickers	2500
Ukuran Gandum	μm	2~10
Kemurnian Kimia	%	99.99995
Kapasitas Panas	J·kg-1 ·K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuwatan Feleksural	MPa (RT 4-titik)	415
Modulus Young	IPK (tikungan 4pt, 1300℃)	430
Ekspansi Termal (CTE)	10-6K-1	4.5
Konduktivitas termal	(W/mK)	300