Cincin Fokus Solid SiC saka Semicera minangka komponen canggih sing dirancang kanggo nyukupi panjaluk manufaktur semikonduktor maju. Digawe saka kemurnian dhuwurSilicon Carbide (SiC), ring fokus iki becik kanggo sawetara saka sudhut aplikasi ing industri semikonduktor, utamané ingProses CVD SiC, plasma etching, lanICPRIE (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching). Dikenal amarga resistensi nyandhang sing luar biasa, stabilitas termal sing dhuwur, lan kemurnian, njamin kinerja sing tahan suwe ing lingkungan stres dhuwur.
Ing semikonduktorwaferProcessing, Solid SiC Fokus Rings wigati kanggo njaga etching pas sak etching garing lan aplikasi wafer etching. Dering fokus SiC mbantu fokus ing plasma sajrone proses kayata operasi mesin etsa plasma, saengga dadi penting kanggo etsa wafer silikon. Materi SiC sing padhet nawakake resistensi sing ora ana tandhingane kanggo erosi, njamin umur dawa peralatan lan nyuda downtime, sing penting kanggo njaga throughput sing dhuwur ing fabrikasi semikonduktor.
Cincin Fokus Solid SiC saka Semicera dirancang kanggo tahan suhu sing ekstrem lan bahan kimia agresif sing umum ditemokake ing industri semikonduktor. Iki dirancang khusus kanggo digunakake ing tugas kanthi tliti dhuwur kayataLapisan CVD SiC, ing ngendi kemurnian lan daya tahan sing paling penting. Kanthi tahan banget kanggo kejut termal, produk iki njamin kinerja sing konsisten lan stabil ing kahanan sing paling angel, kalebu paparan suhu dhuwur sajronewaferproses etsa.
Ing aplikasi semikonduktor, ing ngendi presisi lan linuwih minangka kunci, Cincin Fokus SiC Solid nduweni peran penting kanggo ningkatake efisiensi proses etsa sakabèhé. Desain sing kuat lan kinerja dhuwur ndadekake pilihan sing sampurna kanggo industri sing mbutuhake komponen kemurnian dhuwur sing bisa ditindakake ing kahanan sing ekstrim. Apa digunakake ingCVD SiC ringAplikasi utawa minangka bagéan saka proses etsa plasma, Semicera's Solid SiC Focus Ring mbantu ngoptimalake kinerja peralatan, menehi umur dawa lan linuwih sing dikarepake proses produksi sampeyan.
Fitur utama:
• resistance nyandhang Superior lan stabilitas termal dhuwur
• Material Solid SiC kemurnian dhuwur kanggo umur sing luwih dawa
• Becik kanggo etsa plasma, ICP RIE, lan aplikasi etsa garing
• Sampurna kanggo wafer etching, utamané ing proses CVD SiC
• Kinerja sing bisa dipercaya ing lingkungan sing ekstrem lan suhu dhuwur
• Njamin tliti lan efficiency ing etching saka wafer Silicon
Aplikasi:
• pangolahan CVD SiC ing manufaktur semikonduktor
• Sistem etsa plasma lan ICP RIE
• Proses etsa garing lan wafer etsa
• Etching lan deposisi ing mesin etching plasma
• Komponen presisi kanggo dering wafer lan dering SiC CVD
Morfologi mikroskopik permukaan CVD SiC
Morfologi mikroskopik CVD SiC cross-section
