Katrangan
Silicon Carbide EpitaxialCakram Wafer kanggo Peralatan VEECO saka semicera dirancang kanthi presisi kanggo proses epitaxial sing maju, njamin asil sing berkualitas ing loroIki EpitaxylanSiC Epitaxyaplikasi. Cakram wafer iki dirancang khusus kanggo peralatan VEECO, ningkatake kinerja lan efisiensi macem-macem proses manufaktur semikonduktor. Keahlian Semicera njamin daya tahan lan presisi sing luar biasa kanggo aplikasi kritis.
Cakram wafer epitaxial iki cocog kanggo digunakakeMOCVD Susceptorsistem, nyediakake support kuwat kanggo komponen penting kayataPembawa Etching PSS, ICP Etching Carrier, lanPembawa RTP. Kajaba iku, dheweke nawakake kompatibilitas sing luwih apikLED Epitaxial Susceptor, Barrel Susceptor, lan Monocrystalline Silicon pangolahan, mesthekake yen jalur produksi sampeyan njaga standar efisiensi lan akurasi sing paling dhuwur.
Dirancang kanggo teknologi mutakhir, cakram wafer iki nyumbang banget kanggo produksi Parts Photovoltaic lan nggampangake proses rumit kaya GaN ing SiC Epitaxy. Apa digunakake kanggo konfigurasi Pancake Susceptor utawa aplikasi liyane nuntut, Silicon Carbide Epitaxial Wafer Discs semicera menehi dhasar dipercaya kanggo manufaktur semikonduktor majeng, mesthekake kinerja optimal lan kekiatan long-term.
Fitur Utama
1. High kemurnian SiC ditutupi grafit
2. Superior panas resistance & termal uniformity
3. NggihSiC kristal dilapisikanggo lumahing Gamelan
4. Daya tahan dhuwur marang reresik kimia
Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC:
SiC-CVD | ||
Kapadhetan | (g/cc) | 3.21 |
Kekuatan lentur | (Mpa) | 470 |
Ekspansi termal | (10-6/K) | 4 |
Konduktivitas termal | (W/mK) | 300 |
Packing lan Pengiriman
Kapabilitas sumber:
10000 Piece / Piece saben Sasi
Packaging & Delivery:
Packing: Standar & Packing Kuat
Polybag + Box + Karton + Pallet
Pelabuhan:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Lead Time:
Jumlah (potongan) | 1-1000 | > 1000 |
Est. Wektu (dina) | 30 | Kanggo rembugan |