Film Silikon dening Semicera minangka bahan rekayasa tliti kanthi kualitas dhuwur sing dirancang kanggo nyukupi syarat industri semikonduktor sing ketat. Diprodhuksi saka silikon murni, solusi film tipis iki menehi keseragaman sing apik, kemurnian dhuwur, lan sifat listrik lan termal sing luar biasa. Iku becik kanggo digunakake ing macem-macem aplikasi semikonduktor, kalebu produksi Si Wafer, SiC Substrat, SOI Wafer, SiN Substrat, lan Epi-Wafer. Film Silikon Semicera njamin kinerja sing dipercaya lan konsisten, dadi bahan penting kanggo mikroelektronik canggih.
Kualitas lan Kinerja Unggul kanggo Manufaktur Semikonduktor
Film Silikon Semicera dikenal kanthi kekuatan mekanik sing luar biasa, stabilitas termal sing dhuwur, lan tingkat cacat sing sithik, kabeh iku penting kanggo nggawe semikonduktor kinerja dhuwur. Apa digunakake ing produksi piranti Gallium Oxide (Ga2O3), AlN Wafer, utawa Epi-Wafers, film kasebut nyedhiyakake dhasar sing kuat kanggo deposisi film tipis lan pertumbuhan epitaxial. Kompatibilitas karo substrat semikonduktor liyane kaya SiC Substrat lan SOI Wafers njamin integrasi lancar menyang proses manufaktur sing wis ana, mbantu njaga asil sing dhuwur lan kualitas produk sing konsisten.
Aplikasi ing Industri Semikonduktor
Ing industri semikonduktor, Film Silikon Semicera digunakake ing macem-macem aplikasi, saka produksi Si Wafer lan SOI Wafer nganti panggunaan sing luwih khusus kaya SiN Substrat lan Epi-Wafer nggawe. Kemurnian lan presisi sing dhuwur saka film iki nggawe penting kanggo produksi komponen canggih sing digunakake ing kabeh saka mikroprosesor lan sirkuit terpadu kanggo piranti optoelektronik.
Film Silicon nduweni peran kritis ing proses semikonduktor kayata pertumbuhan epitaxial, ikatan wafer, lan deposisi film tipis. Properti sing dipercaya utamane kanggo industri sing mbutuhake lingkungan sing dikontrol banget, kayata kamar resik ing pabrik semikonduktor. Kajaba iku, Film Silicon bisa digabungake menyang sistem kaset kanggo nangani wafer lan transportasi sing efisien sajrone produksi.
Keandalan lan Konsistensi Jangka Panjang
Salah sawijining mupangat utama nggunakake Film Silikon Semicera yaiku linuwih jangka panjang. Kanthi daya tahan sing apik lan kualitas sing konsisten, film iki menehi solusi sing bisa dipercaya kanggo lingkungan produksi volume dhuwur. Apa digunakake ing piranti semikonduktor kanthi tliti dhuwur utawa aplikasi elektronik canggih, Semicera's Silicon Film njamin manawa manufaktur bisa entuk kinerja lan linuwih ing macem-macem produk.
Napa Pilih Film Silikon Semicera?
Film Silicon saka Semicera minangka bahan penting kanggo aplikasi canggih ing industri semikonduktor. Sifat-sifat kinerja dhuwur, kalebu stabilitas termal sing apik, kemurnian dhuwur, lan kekuatan mekanik, dadi pilihan sing cocog kanggo produsen sing pengin entuk standar paling dhuwur ing produksi semikonduktor. Saka Si Wafer lan Substrat SiC nganti produksi piranti Gallium Oxide Ga2O3, film iki menehi kualitas lan kinerja sing ora cocog.
Kanthi Film Silikon Semicera, sampeyan bisa dipercaya ing produk sing nyukupi kabutuhan manufaktur semikonduktor modern, nyedhiyakake dhasar sing dipercaya kanggo elektronik generasi sabanjure.
| barang | Produksi | Riset | goblok |
| Parameter Kristal | |||
| Politipe | 4H | ||
| Kesalahan orientasi lumahing | <11-20 >4±0.15° | ||
| Parameter Listrik | |||
| Dopan | Nitrogen tipe n | ||
| Resistivity | 0,015-0,025 ohm · cm | ||
| Parameter Mekanik | |||
| Dhiameter | 150,0 ± 0,2 mm | ||
| kekandelan | 350±25 μm | ||
| Orientasi flat utama | [1-100]±5° | ||
| Dawane warata utami | 47,5 ± 1,5 mm | ||
| Flat sekunder | ora ana | ||
| TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
| LTV | ≤3 μm (5mm * 5mm) | ≤5 μm (5mm * 5mm) | ≤10 μm (5mm * 5mm) |
| gandhewo | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
| Warp | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
| Kekasaran ngarep (Si-face) (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Struktur | |||
| Kapadhetan micropipe | <1 ea/cm2 | <10 ea/cm2 | <15 ea/cm2 |
| Kotoran logam | ≤5E10atom/cm2 | NA | |
| BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
| TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
| Kualitas ngarep | |||
| Ngarep | Si | ||
| Rampung lumahing | Si-face CMP | ||
| partikel | ≤60ea/wafer (ukuran≥0.3μm) | NA | |
| Goresan | ≤5ea/mm. Dawane kumulatif ≤Diameter | Kumulatif dawa≤2 * Diameter | NA |
| Kulit jeruk / pit / noda / striations / retak / kontaminasi | ora ana | NA | |
| Pinggir chip / indents / fraktur / piring hex | ora ana | ||
| Wilayah politipe | ora ana | Area kumulatif≤20% | Area kumulatif≤30% |
| Tandha laser ngarep | ora ana | ||
| Kualitas mburi | |||
| Rampung mburi | C-pasuryan CMP | ||
| Goresan | ≤5ea/mm, Kumulatif length≤2 * Diameter | NA | |
| Cacat mburi (keripik pinggir / indentasi) | ora ana | ||
| Kekasaran mburi | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Tandha laser mburi | 1 mm (saka pinggir ndhuwur) | ||
| Pinggir | |||
| Pinggir | Chamfer | ||
| Kemasan | |||
| Kemasan | Epi-siap karo kemasan vakum Kemasan kaset multi-wafer | ||
| * Cathetan: "NA" tegese ora ana panjaluk. | |||
