Pambuka kanggo CVD TaC Coating:
CVD TaC Coating minangka teknologi sing nggunakake deposisi uap kimia kanggo nyelehake lapisan tantalum carbide (TaC) ing permukaan substrat. Tantalum carbide minangka bahan keramik kanthi kinerja dhuwur kanthi sifat mekanik lan kimia sing apik banget. Proses CVD ngasilake film TaC seragam ing permukaan substrat liwat reaksi gas.
Fitur utama:
kekerasan banget lan tahan nyandhang: Tantalum carbide nduweni atose dhuwur banget, lan CVD TaC Coating bisa Ngartekno nambah resistance nyandhang saka landasan. Iki nggawe lapisan sing cocog kanggo aplikasi ing lingkungan sing nganggo dhuwur, kayata alat pemotong lan cetakan.
Stabilitas Suhu Dhuwur: Lapisan TaC nglindhungi tungku kritis lan komponen reaktor ing suhu nganti 2200 ° C, nuduhake stabilitas sing apik. Iki njaga stabilitas kimia lan mekanik ing kahanan suhu sing ekstrem, saengga cocog kanggo pangolahan suhu dhuwur lan aplikasi ing lingkungan suhu dhuwur.
Stabilitas kimia sing apik banget: Tantalum carbide wis resistance karat kuwat kanggo paling asam lan alkalis, lan CVD TaC Coating bisa èfèktif nyegah karusakan ing landasan ing lingkungan korosif.
Titik lebur dhuwur: Tantalum carbide nduweni titik leleh dhuwur (kira-kira 3880 ° C), saéngga CVD TaC Coating bisa digunakake ing kondisi suhu dhuwur banget tanpa leleh utawa ngrusak.
Konduktivitas termal sing apik banget: lapisan TaC wis konduktivitas termal dhuwur, kang mbantu kanggo èfèktif dissipate panas ing pangolahan suhu dhuwur lan nyegah overheating lokal.
Aplikasi potensial:
• Komponen reaktor CVD epitaxial Gallium Nitride (GaN) lan Silicon Carbide kalebu operator wafer, piring satelit, pancuran, langit-langit, lan susceptor
• Komponen pertumbuhan kristal silikon karbida, gallium nitride lan aluminium nitride (AlN) kalebu crucibles, wadhah wiji, cincin panuntun lan saringan
• Komponen industri kalebu unsur pemanasan resistance, nozzle injeksi, cincin masking lan jig brazing
Fitur aplikasi:
• Suhu stabil ing ndhuwur 2000 ° C, ngidini operasi ing suhu sing ekstrim
•Tahan kanggo hidrogen (Hz), amonia (NH3), monosilane (SiH4) lan silikon (Si), nyedhiyakake perlindungan ing lingkungan kimia sing atos
• resistance kejut termal sawijining mbisakake siklus operasi luwih cepet
• Grafit nduweni adhesi sing kuat, njamin umur layanan sing dawa lan ora ana delaminasi lapisan.
• Kemurnian Ultra-dhuwur kanggo ngilangi impurities utawa rereged sing ora perlu
• Jangkoan lapisan Conformal kanggo toleransi dimensi nyenyet
Spesifikasi teknis:
Preparation saka lapisan tantalum karbida kandhel dening CVD:
lapisan TAC karo kristalinity dhuwur lan uniformity banget:
CVD TAC COATING Parameter Teknis_Semikera:
Ing ndhuwur minangka nilai khas.
