Silicon based GaN epitaxy

Katrangan singkat:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. minangka pemasok keramik semikonduktor maju lan siji-sijine pabrikan ing China sing bisa nyedhiyakake keramik karbida silikon kanthi kemurnian dhuwur (utamanerekristalisasi SiC) lan lapisan CVD SiC.Kajaba iku, perusahaan kita uga setya ing lapangan keramik kayata alumina, aluminium nitrida, zirconia, lan silikon nitrida, lsp.

 

Detail Produk

Tag produk

Deskripsi Produk

Perusahaan kita nyedhiyakakelapisan SiClayanan proses kanthi cara CVD ing permukaan grafit, keramik lan bahan liyane, supaya gas khusus sing ngemot karbon lan silikon bereaksi ing suhu dhuwur kanggo entuk molekul SiC kemurnian dhuwur, molekul sing disimpen ing permukaan bahan sing dilapisi, mbentukLapisan protèktif SIC.

Fitur utama:

1. Resistance oksidasi suhu dhuwur:

resistensi oksidasi isih apik banget nalika suhu nganti 1600 C.

2. Kemurnian dhuwur: digawe dening deposition uap kimia ing kondisi chlorination suhu dhuwur.

3. Erosi resistance: atose dhuwur, lumahing kompak, partikel nggoleki.

4. Resistance korosi: reagen asam, alkali, uyah lan organik.

 

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC

Properti SiC-CVD

Struktur Kristal

Fase β FCC

Kapadhetan

g/cm³

3.21

Kekerasan

kekerasan Vickers

2500

Ukuran gandum

μm

2~10

Kemurnian Kimia

%

99.99995

Kapasitas panas

J·kg-1 ·K-1

640

Suhu Sublimasi

2700

Kekuwatan Felexural

MPa (RT 4-titik)

415

Modulus Muda

Gpa (4pt bend, 1300 ℃)

430

Thermal Expansion (CTE)

10-6K-1

4.5

Konduktivitas termal

(W/mK)

300

未标题-1
17
211
Panggonan Kerja Semicera
Panggonan kerja Semicera 2
Mesin peralatan
Pengolahan CNN, reresik kimia, lapisan CVD
layanan kita

  • Sadurunge:
  • Sabanjure: