Katrangan
Lapisan CVD-SiC nduweni karakteristik struktur seragam, materi kompak, tahan suhu dhuwur, tahan oksidasi, kemurnian dhuwur, tahan asam & alkali lan reagen organik, kanthi sifat fisik lan kimia sing stabil.
Dibandhingake karo bahan grafit kemurnian dhuwur, grafit wiwit ngoksidasi ing 400C, sing bakal nyebabake mundhut bubuk amarga oksidasi, nyebabake polusi lingkungan menyang piranti periferal lan ruang vakum, lan nambah impurities lingkungan kemurnian dhuwur.
Nanging, lapisan SiC bisa njaga stabilitas fisik lan kimia ing 1600 derajat, Kang digunakake digunakake ing industri modern, utamané ing industri semikonduktor.
Perusahaan kita nyedhiyakake layanan proses lapisan SiC kanthi metode CVD ing permukaan grafit, keramik lan bahan liyane, supaya gas khusus sing ngemot karbon lan silikon bereaksi ing suhu dhuwur kanggo entuk molekul SiC kemurnian dhuwur, molekul sing disimpen ing permukaan bahan sing dilapisi, mbentuk lapisan protèktif SIC.SIC kawangun wis kuwat kaiket kanggo basa grafit, menehi dhasar grafit sifat khusus, mangkono nggawe lumahing grafit kompak, Porositas-free, resistance suhu dhuwur, resistance karat lan resistance oksidasi.
Aplikasi
Fitur Utama
1. High kemurnian SiC ditutupi grafit
2. Superior panas resistance & termal uniformity
3. Fine SiC kristal ditutupi kanggo lumahing Gamelan
4. Daya tahan dhuwur marang reresik kimia
Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC
| SiC-CVD | ||
| Kapadhetan | (g/cc) | 3.21 |
| Kekuatan lentur | (Mpa) | 470 |
| Ekspansi termal | (10-6/K) | 4 |
| Konduktivitas termal | (W/mK) | 300 |
Packing lan Pengiriman
Kapabilitas sumber:
10000 Piece / Piece saben Sasi
Packaging & Delivery:
Packing: Standar & Packing Kuat
Polybag + Box + Karton + Pallet
Pelabuhan:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Lead Time:
| Jumlah (potongan) | 1 – 1000 | > 1000 |
| Est.Wektu (dina) | 15 | Kanggo rembugan |
